金屬氧化物膜電阻器典型的應(yīng)用

來(lái)源：萬(wàn)利隆電子人氣：發(fā)布時(shí)間：2020-07-14

金屬氧化物膜電阻器的許多性能與金屬膜電阻器相似，所以很多時(shí)候我們很容易混淆這兩種電阻器。目前市場(chǎng)上的金屬氧化物膜電阻器實(shí)驗(yàn)數(shù)量越來(lái)越少，但是還是有一些設(shè)備在使用這種電阻器。金屬氧化物膜電阻器在基本用途上，金屬膜和金屬氧化物膜是目前主要的電阻類型。與碳膜相比，價(jià)格同樣低廉。只有耗散值超過(guò)1瓦結(jié)合合理的穩(wěn)定性，碳膜電阻仍然是更經(jīng)濟(jì)有效。

金屬氧化物膜電阻器的金屬氧化膜主要采用化學(xué)沉積法生產(chǎn)。幾乎總是用陶瓷載體作基板。沉積過(guò)程包括純金屬與氣體在高溫和低壓下的反應(yīng)。一種非常常見(jiàn)的金屬氧化膜是氧化錫。該薄膜是通過(guò)在氯化錫蒸汽中加熱電阻體而形成的。其他的金屬氧化膜通常有不同的沉積過(guò)程。首先涂上一層金屬薄膜，然后與氧反應(yīng)。所要求的組合物是通過(guò)測(cè)量試樣的電阻來(lái)達(dá)到的。

金屬氧化物膜電阻器在將薄膜涂到電阻體上后，通過(guò)施加螺旋切割來(lái)獲得最終的電阻值。這通常是由激光切割，而在過(guò)去，金屬氧化物膜電阻器是由磨削或噴砂。螺旋切割使電阻路徑變長(zhǎng)，截面變小，可使電阻值增加到切割前的千倍。通過(guò)切割可精確控制電阻值。在切割過(guò)程中，電阻被測(cè)量，以允許小的修正。

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